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[冶金矿产] 化合物半导体抛光晶片亚表面损伤的反射差分谱测试方法 GB/T 26070-2010

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发表于 2021-11-10 11:15 | 显示全部楼层 |阅读模式
本标准规定了Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体单晶抛光片亚表面损伤的测试方法。 本标准适用于GaAs、InP(GaP、GaSb可参照进行)等化合物半导体单晶抛光片亚表面损伤的测量。
本文档为标准规范文档。
化合物半导体抛光晶片亚表面损伤的反射差分谱测试方法 GB/T 26070-2010
发布日期:2011-01-10
实施日期:2011-10-01
标准文件有14页。
化合物半导体抛光晶片亚表面损伤的反射差分谱测试方法 GB_T 26070-2010.pdf (343.95 KB)
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