本标准规定了应用扫描表面检查系统(SSIS)对硅抛光片表面颗粒进行测试、计数和报告的程序。本标准适用于硅抛光片,也可适用于硅外延片或其他镜面抛光片(如化合物抛光片)。本标准也适用于观测硅抛光片表面的划痕、桔皮、凹坑、波纹等缺陷,但这些缺陷的检测、分类依赖于设备的功能,并与检测时的初始设置有关。
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标准号:GB/T 19921-2005
标准中文名:硅抛光片表面颗粒测试方法
标准的英文名:Test method of particles on silicon wafer surfaces
发布日期:2005-09-19
实施日期:2006-04-01
作废日期:2019-07-01
被替代标准:GB/T 19921-2018
标准文件有11页。
硅抛光片表面颗粒测试方法 GB_T 19921-2005.pdf
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发表于 2021-11-19 06:12