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    [冶金矿产] 低位错密度磷化铟抛光片蚀坑密度的测量方法 SJ/T 11489-2015

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    发表于 2021-6-18 21:02 | 显示全部楼层 |阅读模式
    本标准规定了低位错密度磷化铟(InP)抛光片腐蚀坑密度(EPD)的测量方法。本标准适用于直径2英寸且EPD小于5000/cm2的圆形InP晶片的EPD的测量。
    本文档为标准规范文档。
    低位错密度磷化铟抛光片蚀坑密度的测量方法 SJ/T 11489-2015
    发布日期：2015-04-30
    实施日期：2015-10-01
    标准文件有8页。
    低位错密度磷化铟抛光片蚀坑密度的测量方法 SJ_T 11489-2015.pdf (947.11 KB)
    蚀坑, 方法, 低位, 位错密度, 抛光, 测量

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