对表面分析用的工作参考物质(WoRM)中离子注入原子序数大于硅的分析物元素，本标准规定了对其驻留面剂量进行定值的程序。WoRM为组成均匀的、标称直径不小于50 mm的抛光(或类似磨面)基片(也称作基片)，并已离子注入一种基片上不存在的某种化学元素的同位素(也称作分析物)，其标称面剂量范围通常为10^16 atoms/cm^2至10^13 atoms/cm^2(即半导体技术中最感兴趣的范围)。WoRM晶片中离子注入分析物的面剂量，是通过与二级参考物质(SeRM)硅片中注入相同分析物的驻留面剂量比较而进行定值的。本标准提供了WoRM定值的概念和程序方面的信息。同时也有对参考物质要求、比较测量和实际定值的描述。离子注入、离子注入剂量术、波长色散X射线荧光光谱和无法得到SeRM时的无证替代物的补充材料见附录A到附录D。定值过程中产生的不确定度来源和数值见附录E。
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表面化学分析 工作参考物质中离子注入产生的驻留面剂量定值的推荐程序 GB/T 34174-2017
发布日期：2017-09-07
实施日期：2018-08-01
采用标准:ISO/TR 16268-2009,IDT
标准文件有22页。
表面化学分析 工作参考物质中离子注入产生的驻留面剂量定值的推荐程序 GB_T 34174-2017.pdf
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发表于 2021-8-8 11:00