碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法（GB/T 41153-2021），标准英文名：Determination of boron, aluminum and nitrogen impurity content in silicon carbide single crystal—Secondary ion mass spectrometry
发布日期：2021-12-31
实施日期：2022-07-01
标准文件有6页。
碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法 GB_T 41153-2021.pdf
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发表于 2022-1-30 13:48